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产品详细说明 |
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TEL: 021-63811212
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KRI 霍夫曼&罗宾逊公司/美国
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离子源
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霍夫曼&罗宾逊公司位于美国丹佛，长期致力于多种离子源的开发和销售。KRI的离子源可以广泛应用于沉积稳定薄膜、纳米结构精密刻蚀和改善表面特性等真空工艺，KRI的产品是许多材料工艺应用中的通用设备，例如：
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产品系列：
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End Hall无栅离子源系列
*eH200 *eH400 *eH1000 *eH2000 *eH3000
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RFICP系列射频栅格离子源
*RFICP40 *RFICP100 *RFICP140 *RFICP200 *RFICP300
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KDC系列霍夫曼栅格离子源
*KDC10 *KDC40 *KDC75 *KDC100 *KDC160
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联系我们，获取更多产品信息 |
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021-63811212 |
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